政策扶持
为促进我国光刻胶产业的发展，国家02重大专项给予了大力支持。今年5月，光刻胶，02重大专项实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。
据悉，经过项目组全体成员的努力攻关，完成了euv光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明专利15项（包括国际专利5项），光刻胶rr41，截止到目前，共获得授权专利10项（包括国际专利授权3项）。
pc6-16000
nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：
- 优异的分辨率性能
- 快速地显影
- 可以通过调节曝光能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度
- 耐受温度100℃
- 室温储存保质期长达3 年
nr9-1000py 0.7μm - 2.1μm
nr9-1500py 1.1μm - 3.1μm
nr9-3000py 2.1μm - 6.3μm
nr9-6000py 5.0μm -
12.2μm
resist thickness
nr71-1000py 0.7μm - 2.1μm
nr71-1500py 1.1μm - 3.1μm
nr71-3000py 2.1μm - 6.3μm
nr71-6000py 5.0μm - 12.2μm
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，光刻胶rr5，pmma（pmgi）以及dnq（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括 futurrex、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、lg化学等等，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
光刻胶rr5-光刻胶-赛米莱德(查看)由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司（www.semild.com）在工业制品这一领域倾注了无限的热忱和热情，赛米莱德一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创辉煌。相关业务欢迎垂询，联系人：况经理。