超净电子纯试剂
超净电子纯试剂 ：
超净高纯试剂是集成电路（ ic ）制作工艺中的专用化学品，用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求十分严厉，为习惯 ic 集成度不断提高的需求，国际上半导体工业协会（ semiconductor industry association ）近来推出 semic7( 合适 0.8-1.2 微米工艺技术 ) 和 semic8( 合适于 0.2-0.6 微米工艺技术 ) 等级的试剂质量规范。我国在原有 mos 级、 bv-i 级试剂的基础上，又拟定出 bv-ii 级和 bv-iii 级试剂规范（相当于 semic7 ）。我研究所也研发多种 mos 级、 bv-i 级 bv-ii 级和部分 bv-iii 级试剂，其颗粒度（ 0.5 微粒颗粒）≤ 25-100 个∕ ml ，金属杂质总量≤ 10 -3 — 10 - 5 ﹪
东莞市润庆化工有限公司成立于2004年，按用户需求专业生产配制各种开油水、洗网水、洗板水、洗面水.类等系列产品。另公司还配套代理进口、国产化工溶剂如；酮类，醇类，石油类，酯类，苯类，醚类，抗磨液压油，亚么尼亚白胶，其他胶类品公司坚持“和谐发展，持续经营”的理念，恪守“诚信、求精、创新、超越”的企业精神，努力使公司的产品更臻完美，客户群日益壮大，我们愿与您携手合作共同创造美好的明天.
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电解法。即用低电流密度使镀液中的cu2+堆积在处理阴极板上的办法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板平和面板三种型式。波纹板在施加必定电流电解时，阴极板上jκ规模较广，波峰处jκ较大，波谷处jκ较小，所以能使cu2+和其他金属杂质一起堆积，到达去除多种杂质的意图。锯齿形阴极板受顶l级效应的影响，电解过程中ni2+和cu2+一起堆积，形成镀液中镍盐损失添加。选用平板阴极能够运用不同的jκ，到达有挑选地去除金属杂质的意图。据经历，jκ为0.5a/dm2时有利于cu2+在阴极分出。 不管选用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题：a.长期电解处理时，应守时清洗电解板，避免电解板上疏松镀层掉落从头污染镀液；b.选用阴极移动或空气拌和能够进步处理作用；c.电解处理中运用的阳极板有必要是优质的镍阳极板，否则将影响处理作用，形成不必要的浪费。
化学堆积剂法。常见的有qt除铜剂，该堆积剂主要成分是亚铁q化物，在镀液中与cu2+生成亚铁q化铜堆积，然后过滤出堆积，到达去除铜杂质的意图。此办法的缺陷是需求进行精细过滤，比较费时。
螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与cu2+形成螯合物，由于在电解中，螯合物和ni2+共堆积，能够使镀液中ρ（cu2+）不至于上升过高。这种办法简单易行，是现在处理镀镍液中杂质较好和有用的办法。在应用时有必要选用优质的螯合剂，特别是要确保不能对镀层发生不良的影响。
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化学镍镀层功能特色
化学镍镀层抗腐蚀性：镀层针孔率底，又对错晶态结构，无晶界面，腐蚀性介质无法浸透经过镀层，其化学稳定性高，具有优秀的抗腐蚀功能。特别是高磷镀层，能够耐各种介质的腐蚀，在许多职业中能够代替不锈钢。
化学镍镀层耐磨性：非晶态的合金结构能起到固体自润滑作用，恰当热处理（350-400℃1h）后强化了镀层结构的驰豫现象，镀层延展性、韧性大为改进，硬度大大提高，加上外表质密、均匀、光滑，因而具有极好的耐磨性l，功能优于硬铬镀层。
化学镍镀层成分：镀层合金（镍磷硼合金），其间镍86-97%，合金成分3-14%。
结合力：镀层合金与基体之间是金属键结合，连接坚固，结合力超l强。钢或铝合金300-400mpa，铜140-160mpa，是电镀的6-8倍，能接受很大的剪切应力而不脱皮。
化学镍镀层硬度：镀态300-500hv，热处理（350-400℃1h）后可到达800-1000hv，挨近电镀硬铬的硬度，但归纳功能比硬铬镀层好，是代替硬铬镀层的理想镀层。
别的，enp镀层还具有耐高（低）温（-50-890℃）、无磁性、钎焊功能好、电阻率低、导电（热）功能好、膨胀系数低、抗变色能力强等特别的物理化学功能，使该工艺在电子、石油化工、机械制造等各个工业部门得到广泛的应用。
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东莞市润庆化工有限公司
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