张家港晋宇达电子科技有限公司
nikon系列光刻机中，掩膜版的直角坐标系统、硅片的直角坐标系统、硅片上曝光成像图形的坐标系统以及硅片工作台的直角坐标系统，掩膜版坐标系统的原点是掩膜版的中心，硅片坐标系统的原点是硅片的中心位置，而硅片上曝光成像图形的中心，亦即该坐标系统的原点是掩膜版中心在硅片上投影成像点的位置。
张家港晋宇达电子科技有限公司在香港、上海、无锡、张家港等地设立了分公司及办事处，并长期有工程师驻扎。
光刻机光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰asml（镜头来自德国），日本nikon（intel曾经购买过nikon的高端光刻机）和日本canon三大品牌为主。
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步进重复投影曝光（stepping-repeating project printing或称作stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（i line）～0.25μm（duv）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（exposure field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。
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