原子沉积系统ALD
原子层沉积系统ALD
标准型（Standard）设备
价格低、质量高、可任选附件进行搭配
结构简单，操作方便，后期维护简单易行
用途广，适合各种基底材料
原子层沉积系统，ALD——扩展型（Flexivol）设备
腔室体积可根据用户样品的尺寸灵活调节，同一腔室可通过简单的调节适用于不同厚度的样品
增多前驱体源入口数目，避免腔室体积增大对前驱体化学源气氛分布的影响
ALD原子层沉积系统——高度定制化（Non-Standard）设备
为工业客户提供薄膜沉积方案
放大基于标准研究型设备检验的相同技术
根据客户的特殊需求，加工定制，满足特殊应用及大规模的生产需要
研发（R&D）服务
开发新的薄膜沉积方案
诊断、改进现有ALD的工艺
为潜在的客户做覆膜演示