谈谈铜箔软连接的工艺要求

铜箔软连接又叫压焊软连接,铜皮软连接又叫钎焊软连接,铜箔软连接采用优质T2紫铜或无氧铜带,按0.10mm(标准设计)或者按照客户要求使用0.03,0.05,0.20,0.30,0.40,0.50mm的铜箔组成的,安装接触面采用压焊设计生产。

分子扩散焊是一种特殊的焊接工艺,能使不同强度的铜箔在特定的区域焊接在一起,铜箔软连接焊接工艺不需要使用任何形式的助焊剂。得益于这种完美的分子连接性,分子扩散焊铜箔软连接是一种绝佳的电导体,安装接触面可以承受任何形式的挤压,弯曲或碰撞。由于安装接触面是定制的,所以他可以安装到只有2毫米的空间内(例如发电机内部作连接用)。广泛适用于新能源汽车,电动汽车,电力电工软连接,大电流软连接片高低压电器,储能锂电池软连接,高低压开关柜,电焊机,电炉,矿用防爆电器,发电机组,碳刷导线的软连接,可针对新能源汽车电池柔性导电连接领域进行专业设计定制加工。


铜箔软连接的生产工序:


1、领料:原材料一般分为硬态和软态两种型号,即t2y和t2m


按照客户及工艺要求选用相应的原材料:


一般表面选用内外贴t2y0.1mm、0.15mm,t2m0.2mm、0.3mm,内层选用t2m0.05mm-0.1mm或全部选用t2m0.2