离子溅射仪 MC1000

采用磁控型电极,大限度地减轻对样品的损坏。
离子溅射仪 mc1000 产品详情
离子溅射仪 mc1000
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采用磁控型电极,大限度地减轻对样品的损坏。
特点规格
特点采用lcd触摸屏,可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件
规格 项目说明
放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)
电压大 0.4 kv dc(直流可变)
电流大 40 ma dc
喷镀速率 *1(大)
[条件]
压力:7 pa
放电电流:40 ma
标靶与样品表面之间的距离:20 mmpt 靶(选配件)15 nm/min
pt-pd 靶(选配件)20 nm/min
au 靶(选配件)35 nm/min
au-pd 靶(选配件)25 nm/min
样品尺寸大直径φ60 mm
大高度20 mm
机械泵135/162 l/min (50/60hz)
靶材*2pt , pt-pd (8:2) , au , au-pd (6:4)
电源要求单相, 100 v ac (±10%) 15 a (50/60 hz), 3-针插头线缆(3 m)
尺寸宽度450 mm
长度391 mm
高度390 mm
重量主机:约 25 kg
机械泵:约 28 kg
*1: 喷镀速率仅供参考*2: 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂,铂-钯,金,金-钯)。
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