>> 产品特点 等离子清洗机/去胶机采用专利高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理，微波等离子体清洗具有高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。 等离子清洗机主要用途： ·等离子体表面改性 ·有机物表面等离子去胶 ·邦定强度增强 ·等离子体刻蚀应用 ·等离子体灰化应用 ·增强或减弱浸润性 ·其它等离子体系统应用>> 相关应用
- 晶圆光刻胶清洗
- 去除残胶
- 晶圆和衬底的清洁
等离子清洗机，等离子去胶机
18年专业研发生产
1. 等离子表面活化/清洗 5.等离子涂镀（亲水，疏水）
2. 等离子处理后粘合 6.增强邦定性
3. 等离子蚀刻/活化 7.等离子涂覆
4. 等离子去胶 8.等离子灰化和表面改性等场合
本公司有多名经验丰富的技术人员，多项专利，先进的生产设备，可根据您的生产需求制作各类非标等离子清洗机，
烟台金鹰科技有限公司
张先生
13356932252
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