产品介绍：真空烤盘炉是与mocvd设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：n2，h2）
石墨盘专用真空烤盘炉 产品详情
产品介绍：真空烤盘炉是与mocvd设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：n2，h2）。主要用于有效清除mocvd承受器（sic涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
技术参数：
使用温度
1450℃
温度
1500℃
绝热材料
石墨纤维毯、石墨纸
马弗材料
sus304
加热元件
石墨加热棒
冷却方式
气冷+循环风冷降温
控温稳定度
±2℃，具有pid参数自整定功能
炉膛温度均匀度
±5℃（恒温1550℃）
控温热偶
wre5
升温速率
15℃/min（空载）
控温点数
1点
降温速率
1450℃至80℃，240分钟
监测点数
1点
极限真空
10-3torr级
气氛
可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气，纯度≧99.999%
抽气速率
空载下，30min达到10-2torr
报警保护
超温、断偶、停气等声光报警保护
设备颜色
电脑驼灰色
电源
容量大于160kva，3相5线，220/380vac，50hz
参考型号
molkp-518（w710×h710×d1000mm）
molkp-1000（w1000×h1000×d1000mm）
molkp-1200（w1000×h1000×d1200mm）
*技术细节变动之处，恕不另行通知，具体设备参数以咨询结果为准。
真萍科技作为专业的热处理设备制造厂商，可根据客户工艺需求定制您需要的满意产品，有需求的客户。