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LEP400干法蚀刻终点检测仪，是可以在线实时监控刻蚀深度的检测设备。具有提前预报终点，精度高（±0.67nm）应用范围广，晶圆可视，可以智能控制刻蚀机的停止或开始等特点。LEP检测方法是终点检测的新方法，相比较OES可以在同一种材料中检测刻蚀深度。广泛应用于Bookham，Oxford ，Corning等系统。
主要产品如下：CFM溅射镀膜机；PECVD镀膜机；IL光学膜厚控制系统；IL晶控系统；自适应光学系统；自适应光学系统用哈特曼传感器；自适应光学系统用变形镜；LEP干法刻蚀终点检测仪；特种溅射靶材：ITO，CdTe, PbTe, Mo, CdS, Hf；蒸发膜料:YbF3,ZnSe,HfO2, PbTe,YF3；晶振片
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