作为半导体芯片生产过程中最重要的装备，光刻机一直牵动人心，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。asml副总裁anthony yen日前表态，如果没有euv光刻机，那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片的。
光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，而且它决定了芯片的工艺水平，常说的xxnm工艺主要是看光刻机水平，10nm工艺之后难度越来越大，光刻机也需要升级到euv级别。
台积电在第一代7nm工艺上没有使用euv光刻机，但是7nm之后的工艺就很难避开euv光刻机了，理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片，但是成本、良率都是个问题，无法拒绝euv光刻机。
目前asml公司是唯一一个能生产euv光刻机的公司，他们做出这样的表态其实也不让人意外，毕竟这是一台售价高达1.2亿欧元、约合10亿一台的1.80传奇高端设备，全球半导体制造厂商都要看asml的脸色。