m2固态横评,i54200M加SSD和i74700MQ不加SSD哪个更好其他配置都一样的

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2,液晶显示器是什么原理制造的 液晶是一种具有规则性分子排列的有机化合物,它即不是固体也不是液体,它是介于固态和液态之间的物质,把它加热时它会呈现透明的液体状态,把它冷却时它则会出现结晶颗粒的混浊固体状态。液晶按照分子结构排列的不同分为三种:粘土状的smectic液晶,细柱形的nematic液晶和软胶胆固醇状的 cholestic液晶。这三种液晶的物理特性各不相同,而第二类的细柱形的nematic液晶最适于用来制造液晶显示器。tn、stn、dstn三种液晶都属于无源矩阵lcd,它们的原理基本相同,不同之处只是各个液晶分子的扭曲角度略有差异而已,其中dstn(俗称“伪彩 ”)在早期的笔记本电脑显示器及掌上游戏机上广为应用,但由于其必须借用外界光源来显像所以其有很大的应用局限性,但这些早期的反射型单色或彩色没有背光设计的lcd可以做得更薄、更轻和更省电,如果能在技术上对其进行革新这些东东对于掌上型电脑和游戏机来说还是非常有用的。而tft薄膜晶体管型有源矩阵 lcd则是我们今天液晶显示器上应用的主流,它具有屏幕反应速度快,对比度好,亮度高,可视角度大,色彩丰富等优点。最早的液晶显示器tn它由玻璃板,偏光器,ito膜,配向膜组成两个夹层等组成,它是所有液晶显示器技术原理的鼻祖。而tft液晶显示器同tn系列液晶显示器一样由玻璃基板、ito膜、配向膜、偏光板等部分组成,它也同样采用两夹层间填充液晶分子的设计,只不过把tn上部夹层的电极改为fet晶体管,而下层改为共同电极。在光源设计上,tft的显示采用“背透式”照射方式,即假想的光源路径不是像tn液晶那样的从上至下,而是从下向上,这样的作法是在液晶的背部设置类似日光灯的光管。光源照射时先通过下偏光板向上透出,它也借助液晶分子来传导光线,由于上下夹层的电极改成fet电极和共通电极。在fet电极导通时,液晶分子的表现如tn液晶的排列状态一样会发生改变,也通过遮光和透光来达到显示的目的。但不同的是,由于fet晶体管具有电容效应,能够保持电位状态,先前透光的液晶分子会一直保持这种状态,直到fet电极下一次再加电改变其排列方式。相对而言,tn系列液晶屏就没有这个特性,液晶分子一旦没有施压,立刻就返回原始状态,这是tft液晶屏的优点。大家知道tft液晶显示器的每个点都由红绿蓝三部分组成,一般情况下15寸分辨率为1024x768的tft液晶显示器的点距为0.30mm左右。tft 液晶显示器与crt显示器不同,其具有固定的分辨率,只有在指定使用的分辨率下其画质才最佳,在其它的分辨率下可以以扩展或压缩的方式,将画面显示出来。一.工艺流程简述: 前段工位: ito 玻璃的投入(grading)—— 玻璃清洗与干燥(cleaning)——涂光刻胶(pr coat)——前烘烤(prebreak)——曝光(develop) 显影(main cure)——蚀刻(etching)—— 去膜(strip clean)—— 图检(insp)——清洗干燥(clean)——top 涂布(top coat)—— uv 烘烤(uv cure)—— 固化(main cure)——清洗(clean)—— 涂取向剂(pi print)——固化(main cure)—— 清洗(clean)——丝网印刷(seal/short printing)—— 烘烤(cuping furnace)—— 喷衬垫料(spacer spray)—— 对位压合(assembly)—— 固化(seal main curing) 1. ito 图形的蚀刻:(ito 玻璃的投入到图检完成) a. ito 玻璃的投入:根据产品的要求,选择合适的ito 玻璃装入传递篮具中,要求ito 玻璃的规格型号符合产品要求,切记ito 层面一定要向上插入篮具中。 b. 玻璃的清洗与干燥: 将用清洗剂以及去离子水(di 水)等洗净ito 玻璃,并用物理或者化学的方法将ito 表面的杂质和油污洗净,然后把水除去并干燥,保证下道工艺的加工质量。 c. 涂光刻胶: 在ito 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶,涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理:(如下图) d. 前烘:在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间,以使光刻胶中的溶剂挥发,增加与玻璃表面的粘附性。 e. 曝光:用紫外光(uv)通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面,使被照光刻胶层发生反应,在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光:(如图所示) f. 显影:用显影液处理玻璃表面,将经过光照分解的光刻胶层除去,保留未曝光部分的光刻胶层,用化学方法使受uv 光照射部分的光刻胶溶于显影液中,显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理。(如图:) g. 坚膜:将玻璃再经过一次高温处理,使光刻胶更加坚固。 h. 刻蚀:用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ito 膜蚀掉,这样就得到了所需要的ito 电极图形,如图所示: 注:ito 玻璃为(in2o3 与sno2)的导电玻璃,此易与酸发生反应,而用于蚀刻掉多余的ito,从而得到相应的拉线电极。 i. 去膜:用高浓度的碱液(naoh 溶液)作脱膜液,将玻璃上余下的光刻胶剥离掉,从而使ito 玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的ito 图形。(即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成,如图) j. 清洗干燥:用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其它的杂质。 2. 特殊制程:(top 膜的涂布到固化后清洗) 一般的tn 与stn 产品不要求此步骤,top 膜的涂布工艺是在光刻工艺之后再做一次sio2 的涂布,以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住,这既可以起到绝缘层的作用,又能有效地消除非显示状态下的电极底影,还有助于改善视角特性等等,因此大部分的高档次产品要求有top 涂布。 3. 取向涂布(涂取向剂到清洗完成) 此步工艺为在蚀刻完成的ito 玻璃表面涂覆取向层,并用特定的方法对限向层进行处理,以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方向取向(排列),此步骤是液晶显示器生产的特有技术。 a. 涂取向剂:将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面,即采用选择涂覆的方法,在ito 玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向层,同时对取向层做固化处理。(一般在显示区) b. 固化: 通过高温处理使取向层固化。 c. 取向摩擦:用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面,以使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。如tn 型号摩擦取向:45 度 d. 清洗: 取向摩擦后的玻璃上会留下绒布线等污染物,需要采取特殊的清洗步骤来消除污染物。 4. 空盒制作:(丝网印刷到固化) 此步工艺是把两片导电玻璃对叠,利用封接材料贴合起来并固化,制成间隙为特定厚度的玻璃盒。制盒技术是制造液晶显示器的最为关键的技术之一。(必须严格控制液晶盒的间距) a. 丝印边框及银点:将封接材料(封框胶)用丝网印刷的方法分别对上板印上边框胶和和下板玻璃印是导电胶。 b. 喷衬垫料: 在下玻璃上均匀分布支撑材料。将一定尺寸的衬垫料(一般为几个微米)均匀分散在玻璃表面,制盒时就靠这些材料保证玻璃之间的间距即盒厚。 c. 对位压合: 按对位标记上与下玻璃对位粘合,将对应的两片玻璃面对面用封接材料粘合起来。 d. 固化: 在高温下使封接材料固化。固化时一般在上下玻璃上加上一定的压力,以使液晶盒间距(厚度保持均匀)。 后段工位: 切割(scribing)—— y 轴裂片(break off)—— 灌注液晶(lc injection)—— 封口(end sealing)——x 轴裂片(break off)—— 磨边—— 一次清洗(clean) ——再定向(heating) ——光台目检(visual insp)—— 电测图形检验(electrical)——二次清洗(clean)—— 特殊制程(polygon)——背印(back printing)—— 干墨(cure)—— 贴片(polarizer assembly)—— 热压(cleaver)—— 成检外观检判(fqc) ——上引线(bit pin)—— 终检(final insp)——包装(packing)—— 入库(in stock
3,地下连续墙施工中导墙起到的作用有 作为地下连续墙在地表面的基准物;确定地下墙单元槽段在实地的位置;作为地表土体的挡土墙;防止泥浆流失;作为容纳和储蓄泥浆的沟槽;作为挖槽机挖槽起始阶段的导向物;作为检测槽段形位偏差的基准物;作为钢筋笼入槽吊装时的支承物;作为顶拔接头管时的支座。地下