- 加工定制：
- 品牌：OG-ACE紧凑型台式反应离子刻蚀（RIE）系统Compact Table-Top RIE Systems
- 型号：OG-ACE紧凑型台式反应离子刻蚀（RIE）系统 电子器件及混合物清洗Devices, Hybrids Cleaning
- 用途： A – Ashing 光刻胶灰化、Activation材料表面活化。 C – Cleaning 等离子清洗。 E – Etching 等离子刻蚀。
- 提供加工定制：否
- 别名： 各向异性的反应离子刻蚀（Anisotropic RIE）
- 输入电压：220 VAC
- 外形尺寸：约51.00 * 27.00 * 51.00 厘米
- 电解液导电质： 配套真空泵浦使用工艺气体: 大气、氩气、氮气、活性气体如氧气及氟化气体如四氟化碳(抽气速率为166 l/min, 5.8 CFM, 10 m3/hr、真空度
- 规格：
p/n:og-ace紧凑型台式反应离子刻蚀（rie）系统compact table-top rie systems
ace多功能台式等离子处理系统基本应用
ø a – ashing 光刻胶灰化、activation材料表面活化
ø c – cleaning 等离子清洗
ø e – etching 等离子刻蚀
ø 各向同性的等离子刻蚀（isotropicplasma etching）
ø 各向异性的反应离子刻蚀（anisotropicrie）
ace多功能台式等离子处理系统其它应用
ø 去除有机物organicremoval；
ø pdms键合pdms bonding;
ø 有机物预键合oxidespre-bonding;
ø 失效分析 failureanalysis;
ø 电子器件及混合物清洗devices, hybridscleaning
ace等离子系统的技术规格优势
ø 标准射频功率：10~150w @13.56 mhz (功率适中，价位较300w低廉)；
ø 自动操作计时器：射频电源实际放电，舱内辉光后，开始计时及定时；
ø 参数显示：旋钮切换显示射频功率设定值、舱内实际功率、舱内真空度等（较触摸屏略简化，但经济适用，满足基本功能需要）；
ø led系统自检外设卡：led显示器用于系统模块状态故障自检（无需专业人员维护，根据led显示情况即可判断故障所在，并采取修正措施）；
ø 真空处理舱建造材料：舱体采用阳极氧化6061-t6航空级铝材（材质性能稳定，且不会与材料起反应，造成二次污染）；
ø 样件支架：双用途支架，用于不同工艺应用即标准等离子工艺处理、反应离子刻蚀（rie）工艺处理(仅通过手动切换，无复杂的电子部件，性能稳定)；
ø 配套真空泵浦使用工艺气体:大气、氩气、氮气、活性气体如氧气及氟化气体如四氟化碳(抽气速率为166l/min, 5.8 cfm, 10 m3/hr、真空度可达5x10-4 torr, 6.7x10-2 pa,.0006 mbar)；能够快速抽空真空舱、实现等离子辉光；
ø 系统整机经过安全检测、通过ce认证；
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