推介一款真萍科技hmds预处理系统。
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。下面让真萍科技为您推介一款hmds预处理系统。
一、产品概述：
hmds 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
增黏剂hmds（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将hmds涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
二、hmds 预处理系统的应用领域：在匀胶前的硅片等基片表面均匀涂布一层hmds。作用：降低hmds处理后的硅片接触角，进而降低匀胶 时光刻胶在硅片表面铺展开的难度，提高光刻胶与硅片的黏附性，降低光刻胶的用量。
三、hmds 预处理系统的原理： 预处理系统通过对烘箱hmds预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
四、hmds预处理系统的优点：
1.预处理性能更好。
2.处理更加均匀。
3.效率高。
4.更加节省药液。
5.更加环保和安全。
真萍科技作为专业的hmds预处理系统制造厂商，可根据客户特殊需求定制您需要的满意产品，有需求的客户详情请咨询400-608-2908。