半导体显影清洗机 1．半导体显影清洗机概述：本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行显影和定影，该产品技术先进、一致性强，适用于规模生产。 2．半导体显影清洗机整台设备材料均为进口。 3．半导体显影清洗机设备为双排槽构成，每排7槽，各设一套机械手，两排可独立同时完成相应的工序。 4．半导体显影清洗机设备除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成。 5．半导体显影清洗机每槽装片能力：50片/批（2花篮，25片/花篮）。 6．工作区洁净度：100级。 7．槽间工艺转换时间：tm ax≤3.5s
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杨磊
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