真萍科技真空烤箱为什么不设温度均匀度参数？
真空烤箱应用与生物化学、化工制药、医疗卫生、农业科研、环境保护等研究应用领域，作粉末干燥、烘培以及各类玻璃容器的清洗和洁净之用。特别适合于对干燥热敏性、易分解、易氧化物质和复杂成分物品进行快速的干燥处理。
真萍科技是专业的从事热处理设备、烘烤制程设备、环境与可靠性试验设备、半导体黄光区专用设备，储存专业设备等产品专业供应商，由一批多年从事热工、真空,结构、半导体等行业的专业工程技术人员为核心，具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。下面让真萍科技来给您解答为什么真空烤箱不设温度均匀度。
一般的电热（鼓风）干燥箱均设有温度均匀度参数：自然对流式的干燥箱为工作温度上限乘3%，强制对流式的干燥箱为工作温度上限乘2.5%。惟独电热真空烤箱不设温度均匀度参数，这是因为真空烤箱内依靠气体分子运动使工作室温度达到均匀的可能性几乎已经没有了。因此，从概念上我们就不能再把通常电热（鼓风）干燥箱所规定的温度均匀度定义用到真空烤箱上来。
在真空状态下设这个指标也是没有意义的。热辐射的量与距离的平方成反比。同一个物体，距离加热壁20cm处所接受的辐射热只是距离加热壁10cm处的1/4。差异很大。这种现象与冬天晒太阳时，晒到太阳的一面很暖和，晒不到太阳的一面比较冷是一个道理。由于真空烤箱在结构上很难做到使工作室三维空间内的各点辐射热的均匀一致，同时也缺乏权威的评估方法，这成为真空烤箱标准中不设温度均匀度参数的原因。
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